真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

真空鍍膜設(shè)備具體應(yīng)用范圍：
1、在硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用：切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。
2、在防護涂層中的應(yīng)用：飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。
3、在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應(yīng)用：增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。
4、在建筑玻璃方面的應(yīng)用：陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。
5、在太陽能利用領(lǐng)域的應(yīng)用：太陽能集熱管、太陽能電池等。
6、在集成電路制造中的應(yīng)用：薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。
7、在信息顯示領(lǐng)域的應(yīng)用：液晶屏、等離子屏等。
8、在信息存儲領(lǐng)域的應(yīng)用：磁信息存儲、磁光信息存儲等。
9、在裝飾飾品上的應(yīng)用：手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等鍍膜。
10、在電子產(chǎn)品領(lǐng)域的應(yīng)用：液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示、手機顯示、數(shù)碼相機和掌聲電腦等。