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磁控濺射鍍膜機(jī)采購競(jìng)價(jià)公告
標(biāo)簽: 鍍膜機(jī)
2022-06-27  閱讀

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  【康沃真空網(wǎng)】磁控濺射鍍膜機(jī)采購競(jìng)價(jià)公告

項(xiàng)目名稱磁控濺射鍍膜機(jī)采購項(xiàng)目編號(hào)WUST-JJXM-20220048
項(xiàng)目編號(hào)WUST-JJXM-20220048
公告發(fā)布日期2022/06/27 10:26公告截止日期2022/06/30 10:26
公告截止日期2022/06/30 10:26
采購單位武漢科技大學(xué)付款條款貨到驗(yàn)收合格后一次性支付全款
付款條款貨到驗(yàn)收合格后一次性支付全款
聯(lián)系人中標(biāo)后在我參與的項(xiàng)目中查看聯(lián)系手機(jī)中標(biāo)后在我參與的項(xiàng)目中查看
聯(lián)系手機(jī)中標(biāo)后在我參與的項(xiàng)目中查看
是否本地化服務(wù)是否需要踏勘
是否需要踏勘
采購預(yù)算¥193,000.00
送貨/施工/服務(wù)期限合同生效之日起20日內(nèi)
送貨/施工/服務(wù)地址武漢市青山區(qū)武漢科技大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院



   采購清單

1

采購內(nèi)容是否進(jìn)口計(jì)量單位采購數(shù)量售后服務(wù)
磁控濺射鍍膜機(jī)111.1、在設(shè)備到達(dá)目的地后,投標(biāo)人派工程師到用戶處免費(fèi)進(jìn)行設(shè)備的安裝、調(diào)試。 1.2.1、負(fù)責(zé)鍍膜系統(tǒng)的現(xiàn)場(chǎng)安裝和調(diào)試; 1.2.2、提供設(shè)備的操作培訓(xùn); 1.2.3、提供設(shè)備的常見問題處理培訓(xùn); 1.2.4、提供有關(guān)鍍膜工藝培訓(xùn),有專業(yè)的鍍膜工藝人員現(xiàn)場(chǎng)提供培訓(xùn),并提供設(shè)備試機(jī)時(shí)的金屬靶材。 2.1保修:合同設(shè)備安裝后,設(shè)備保修期為驗(yàn)收合格后1年。 2.2合同設(shè)備出現(xiàn)故障時(shí),投標(biāo)人確保及時(shí)維修,并確保在接到用戶方服務(wù)要求的2小時(shí)內(nèi)作出回應(yīng)。 電話指導(dǎo)不能排除的故障,工程師可在1個(gè)工作日內(nèi)到現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行維修服務(wù),僅收取材料成本費(fèi)。
參考品牌及型號(hào)不限定品牌型號(hào)
技術(shù)參數(shù)要求1.真空系統(tǒng)及濺射真空室組件 1.1 真空系統(tǒng):8L機(jī)械+KYKY FF-160/620C分子泵,配備超高真空主閥+全自動(dòng)節(jié)流閥; 1.2真空室尺寸約300 mm ×300 mm× 350 mm,U型結(jié)構(gòu),正面開門結(jié)構(gòu),可烘烤100 ~ 150 度,選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面進(jìn)行特殊工藝拋光處理,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封; 真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭。 2、磁控濺射靶組件至少2套 2.1、靶材尺寸:2英寸; 2.2、永磁靶:射頻濺射與直流濺射兼容,靶內(nèi)有水冷; 2.3、氣動(dòng)控制擋板組件:3套; 2.4、靶配有屏蔽罩,以避免靶材之間的交叉污染; 2.5、傾斜向上濺射時(shí),靶與樣品距離60 ~ 130 mm可調(diào)并有調(diào)位距離指示。當(dāng)直接向上濺射時(shí),靶與樣品距離40 ~ 80 mm可調(diào),并有調(diào)位距離指示。 3、單基片加熱旋轉(zhuǎn)臺(tái),基片通過加熱絲加熱方式,由熱電偶閉環(huán)反饋控制,可控可調(diào),精度±1 oC;溫度均勻性在襯底上的偏差約≤ 2%; 4、窗口及法蘭接口部件 4.1、直徑大于100玻璃窗口:1塊; 4.2、陶瓷封接引線法蘭:1個(gè)(內(nèi)烘烤引線); 5、工作氣路(濺射室) 5.1、100 SCCM、50 SCCM質(zhì)量流量控制器、進(jìn)氣截止閥、混氣室、管路等: 6、離子源 配備一套離子源,用于輔助濺射。 7、安裝機(jī)臺(tái)架組件 型材框架,快卸圍板表面噴塑處理;機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾;四只腳輪,可固定,可移動(dòng); 8、真空測(cè)量及電控系統(tǒng) 8.1、電源機(jī)柜:2臺(tái)(含供電電源,有斷電保護(hù)功能); 8.2、控制電源:1臺(tái)(為機(jī)械泵、電磁閥、升降電機(jī)等提供電源); 8.3、冷卻水循環(huán)系統(tǒng),制冷功率大于1P; 水流報(bào)警系統(tǒng):2套(對(duì)分子泵、磁控靶有斷水報(bào)警切斷電源等相應(yīng)功能); 8.4、濺射室樣品加熱控溫電源:1套(日本產(chǎn)控溫表,可實(shí)現(xiàn)程序控溫); 8.5、電機(jī)控制電源:1套; 8.6、靶擋板電源:2套; 8.7、加熱烘烤及照明電源:1套; 8.8、寬量程數(shù)顯真空計(jì):2套;測(cè)量范圍:1.0 × 105 Pa ~ 1.0 × 10-5 Pa。 8.9、100 SCCM、50 SCCM質(zhì)量流量控制器:2套; 8.10、分子泵控制電源:1套; 8.11、500 W射頻電源:1套(配自動(dòng)匹配器); 8.12、500 W直流電源:1套; 9、控制系統(tǒng) 配備觸摸屏自動(dòng)控制,可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)鍍膜,提供ITO、AZO、氧化鎳、氮化鈦鍍膜工藝;


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