磁控濺射鍍膜機(jī)采購競(jìng)價(jià)公告
【康沃真空網(wǎng)】磁控濺射鍍膜機(jī)采購競(jìng)價(jià)公告
| 項(xiàng)目名稱 | 磁控濺射鍍膜機(jī)采購 | 項(xiàng)目編號(hào) | WUST-JJXM-20220048 |
| 項(xiàng)目編號(hào) | WUST-JJXM-20220048 | ||
| 公告發(fā)布日期 | 2022/06/27 10:26 | 公告截止日期 | 2022/06/30 10:26 |
| 公告截止日期 | 2022/06/30 10:26 | ||
| 采購單位 | 武漢科技大學(xué) | 付款條款 | 貨到驗(yàn)收合格后一次性支付全款 |
| 付款條款 | 貨到驗(yàn)收合格后一次性支付全款 | ||
| 聯(lián)系人 | 中標(biāo)后在我參與的項(xiàng)目中查看 | 聯(lián)系手機(jī) | 中標(biāo)后在我參與的項(xiàng)目中查看 |
| 聯(lián)系手機(jī) | 中標(biāo)后在我參與的項(xiàng)目中查看 | ||
| 是否本地化服務(wù) | 否 | 是否需要踏勘 | 否 |
| 是否需要踏勘 | 否 | ||
| 采購預(yù)算 | ￥193,000.00 | ||
| 送貨/施工/服務(wù)期限 | 合同生效之日起20日內(nèi) | ||
| 送貨/施工/服務(wù)地址 | 武漢市青山區(qū)武漢科技大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院 | ||
采購清單
1
| 采購內(nèi)容 | 是否進(jìn)口 | 計(jì)量單位 | 采購數(shù)量 | 售后服務(wù) | |
| 磁控濺射鍍膜機(jī) | 否 | 1 | 1 | 1.1、在設(shè)備到達(dá)目的地后，投標(biāo)人派工程師到用戶處免費(fèi)進(jìn)行設(shè)備的安裝、調(diào)試。 1.2.1、負(fù)責(zé)鍍膜系統(tǒng)的現(xiàn)場(chǎng)安裝和調(diào)試； 1.2.2、提供設(shè)備的操作培訓(xùn)； 1.2.3、提供設(shè)備的常見問題處理培訓(xùn)； 1.2.4、提供有關(guān)鍍膜工藝培訓(xùn)，有專業(yè)的鍍膜工藝人員現(xiàn)場(chǎng)提供培訓(xùn)，并提供設(shè)備試機(jī)時(shí)的金屬靶材。 2.1保修：合同設(shè)備安裝后，設(shè)備保修期為驗(yàn)收合格后1年。 2.2合同設(shè)備出現(xiàn)故障時(shí)，投標(biāo)人確保及時(shí)維修，并確保在接到用戶方服務(wù)要求的2小時(shí)內(nèi)作出回應(yīng)。 電話指導(dǎo)不能排除的故障，工程師可在1個(gè)工作日內(nèi)到現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行維修服務(wù)，僅收取材料成本費(fèi)。 | |
| 參考品牌及型號(hào) | 不限定品牌型號(hào) | ||||
| 技術(shù)參數(shù)要求 | 1.真空系統(tǒng)及濺射真空室組件 1.1 真空系統(tǒng)：8L機(jī)械泵+KYKY FF-160/620C分子泵,配備超高真空主閥+全自動(dòng)節(jié)流閥； 1.2真空室尺寸約300 mm ×300 mm× 350 mm，U型結(jié)構(gòu)，正面開門結(jié)構(gòu)，可烘烤100 ~ 150 度，選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進(jìn)行特殊工藝拋光處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封； 真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭。 2、磁控濺射靶組件至少2套 2.1、靶材尺寸：2英寸； 2.2、永磁靶：射頻濺射與直流濺射兼容，靶內(nèi)有水冷； 2.3、氣動(dòng)控制擋板組件：3套； 2.4、靶配有屏蔽罩，以避免靶材之間的交叉污染； 2.5、傾斜向上濺射時(shí)，靶與樣品距離60 ~ 130 mm可調(diào)并有調(diào)位距離指示。當(dāng)直接向上濺射時(shí)，靶與樣品距離40 ~ 80 mm可調(diào)，并有調(diào)位距離指示。 3、單基片加熱旋轉(zhuǎn)臺(tái)，基片通過加熱絲加熱方式，由熱電偶閉環(huán)反饋控制，可控可調(diào)，精度±1 oC；溫度均勻性在襯底上的偏差約≤ 2%； 4、窗口及法蘭接口部件 4.1、直徑大于100玻璃窗口：1塊； 4.2、陶瓷封接引線法蘭：1個(gè)（內(nèi)烘烤引線）； 5、工作氣路（濺射室） 5.1、100 SCCM、50 SCCM質(zhì)量流量控制器、進(jìn)氣截止閥、混氣室、管路等： 6、離子源 配備一套離子源，用于輔助濺射。 7、安裝機(jī)臺(tái)架組件 型材框架，快卸圍板表面噴塑處理；機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾；四只腳輪，可固定，可移動(dòng)； 8、真空測(cè)量及電控系統(tǒng) 8.1、電源機(jī)柜：2臺(tái)（含供電電源，有斷電保護(hù)功能）； 8.2、控制電源：1臺(tái)（為機(jī)械泵、電磁閥、升降電機(jī)等提供電源）； 8.3、冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，制冷功率大于1P； 水流報(bào)警系統(tǒng)：2套（對(duì)分子泵、磁控靶有斷水報(bào)警切斷電源等相應(yīng)功能）； 8.4、濺射室樣品加熱控溫電源：1套（日本產(chǎn)控溫表，可實(shí)現(xiàn)程序控溫）； 8.5、電機(jī)控制電源：1套； 8.6、靶擋板電源：2套； 8.7、加熱烘烤及照明電源：1套； 8.8、寬量程數(shù)顯真空計(jì)：2套；測(cè)量范圍：1.0 × 105 Pa ~ 1.0 × 10-5 Pa。 8.9、100 SCCM、50 SCCM質(zhì)量流量控制器：2套； 8.10、分子泵控制電源：1套； 8.11、500 W射頻電源：1套（配自動(dòng)匹配器）； 8.12、500 W直流電源：1套； 9、控制系統(tǒng) 配備觸摸屏自動(dòng)控制，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)鍍膜，提供ITO、AZO、氧化鎳、氮化鈦鍍膜工藝； | ||||
