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捷佳偉創(chuàng)團(tuán)簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備成功下線
標(biāo)簽: 鈣鈦礦真空鍍膜
2023-10-20  閱讀

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  【康沃真空網(wǎng)】近日,捷佳偉創(chuàng)五合一團(tuán)簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備成功下線,并且獲得客戶FAT驗(yàn)收通過(guò)后順利出貨。五合一團(tuán)簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備將對(duì)薄膜制備領(lǐng)域產(chǎn)生重大影響。

       捷佳偉創(chuàng)團(tuán)簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備成功下線

  這項(xiàng)革命性的技術(shù)整合了RPD、多源蒸鍍、RF濺射、脈沖直流濺射和直流濺射等多種技術(shù),能夠在真空環(huán)境中連續(xù)沉積各種薄膜,包括TCO(ITO、IWO、ICO、IZO)、Cu、SnO2和NiO等,同時(shí)保持界面間的最佳特性,為材料科學(xué)、電子工程和光電子學(xué)等領(lǐng)域的研究提供了一個(gè)強(qiáng)大的裝備支撐。

  五合一團(tuán)簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備具備以下特點(diǎn):

  多技術(shù)合一

  該款設(shè)備將RPD、多源蒸鍍、RF濺射、脈沖直流濺射和直流濺射等多種技術(shù)相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)了真空環(huán)境中的薄膜連續(xù)沉積。這項(xiàng)創(chuàng)新性技術(shù)可應(yīng)用于多種領(lǐng)域,為材料科學(xué)、電子工程和光電子學(xué)等領(lǐng)域的研究提供了全新可能。

  降低成本

  該款設(shè)備可顯著減少鈣鈦礦電池設(shè)備的占地面積、降低資本支出和試驗(yàn)成本,同時(shí)可在保持真空狀態(tài)完成多層膜沉積,有效提升鈣鈦礦電池效率。

  低轟擊高速率特性

  該款設(shè)備中的RPD設(shè)備具有離子轟擊小、表面損傷少、沉積速度快、少子壽命長(zhǎng)等優(yōu)勢(shì),RPD設(shè)備制備的薄膜致密性更好、導(dǎo)電性更高、透光性更好,對(duì)于提升太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)換效率具有重要作用。同時(shí),RPD還能夠?qū)崿F(xiàn)高鍍膜速率和大尺寸薄膜的生產(chǎn)。

  多功能選項(xiàng)

  該款設(shè)備提供了多種選項(xiàng),包括各種冷阱、相鄰鍍膜腔工藝氣氛隔絕和加熱器等,使客戶能夠根據(jù)其具體需求進(jìn)行定制配置,有利于嘗試不同的鈣鈦礦薄膜組合。