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影響現實真空系統(tǒng)的因素——殘余氣體組成
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2015-05-04  閱讀

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殘余氣體組成在超高真空中工作時,重要的是,在開始真空工藝之前或為了監(jiān)控工藝,需要了解殘余氣體的組成。水的百分比(m/e = 18) 及其不完整部分 OH (m/e = 17) 在真空室不干凈或烘烤不徹底的情況下降會很大。在 N2/O2 之比大約為4:1 時,可通過氮(m/e = 28) 和氧 (m/e = 32) 的峰值來確定泄漏。

可在完全烘烤好的腔室中發(fā)現氫 (m/e = 2)、水 (m/e =17 和 18)、一氧化碳 (m/e = 28) 和二氧化碳 (m/e = 44)。
在使用渦輪分子時,將不會發(fā)現烴。由于高分子量和所得到的高壓縮比,他們有效地被排除在腔室之外。通過渦輪分子泵排空的清潔容器的典型殘余氣體譜所圖 1.10 所示。

影響現實真空系統(tǒng)的因素——殘余氣體組成