實際真空系統(tǒng)中，存在著從氣源流向泵的氣流，這些氣源有的是經(jīng)過漏孔注入的氣流，也有的是由于各種出氣效應造成的氣流。不僅各種真空泵可以抽除氣體，而且真空規(guī)和清潔表面也有吸附氣體作用。因此，實際的真空系統(tǒng)中氣流分布通常是不均勻的。流經(jīng)管狀導管的氣體會被管子聚束，導致流入容器的氣流分布更不均勻。真空系統(tǒng)中稀薄氣流非均勻分布的影響，已成為近年來詳加研究的課題，而這些研究結果則又促進了精確測量氣體壓力技術的發(fā)展。

一般情況下，在我們討論壓力測量時，無形中已假定了兩個條件：

①在一包殼中，單位立體角的氣流密度與方向和位置無關，在給定空間的一點只存在一個壓力，此壓力與在此點的壓力規(guī)的方位無關。即氣流各向同性昀假設。

②系統(tǒng)所有部分是處在同一溫度下，被引用的氣體壓力指的是此溫度下的壓力，即等溫假設。

事實上，這兩個條件在許多實際系統(tǒng)中是不滿足的，舉兩個典型例子加以說明：

①如容器中的氣流沿同一方向流向一個粘著系數(shù)為1的表面，那么當規(guī)管的開口對著此表面時，則讀數(shù)為0，而規(guī)管開口對著氣流時讀數(shù)則z*大。這例子說明氣流方向?qū)y量的影響。

②一封閉的電離規(guī)，其中充有靜壓為Pi(Ti為300K)的氮氣，若將其浸入液氮中(T2為77K)，則其中壓力P2為 P2/P1=T2/Tl=0.257

雖然壓力降低了約3/4，但因氣體密度沒變，所以電離規(guī)的指示不變。這例子說明溫度對測量壓斬的影響。
 

圖11-79

在超高真空系統(tǒng)中，定向流動和不等溫狀態(tài)往往同時存在，可見研究非均勻環(huán)境下的壓力測量問題是實踐中提出的一個十分重要的理論問題。研究非均勻氣流測量問題，導致碰撞壓力轉(zhuǎn)換器 孔規(guī)的發(fā)展(圖11-79)。這是一種由兩個小室構成的、具有小孔入口的管規(guī)。第一個室是球形的，它的作用是使經(jīng)過小孔注入的定向分子束氣流變成隨機狀態(tài)，然后由與此室相連的、具有擋板的管狀電離規(guī)所測量，此規(guī)的壓力讀數(shù)可用來監(jiān)測定向分子流量。規(guī)中的分子密度n(其相應的壓力為p-nkT)和規(guī)孔面對著氣流方向時所進入的分子入射率n之間的關系如下
 

式中 k-玻耳茲曼常數(shù);T-熱力學溫度。

采用裝在移動臂上的壓力轉(zhuǎn)換器規(guī)的實驗不但證明了通過薄孔和短管的氣流花樣是與理論相符的，同時還可研究球形容器中分子流分布。

在航天科學的空間環(huán)境模擬容器中模擬外層空間的分子沉條件時，從容器中心的試件上發(fā)出的分子在被容器壁捕集之前，要經(jīng)碰撞多次才返回到試件上。返回次數(shù)N為

模擬的理想目標是使N→0(分子沉)，這就要求口→1。為了用電離規(guī)監(jiān)測模擬分子沉的效果，將管規(guī)放在容器中心，測量從壁上返回的分子流，用所謂“有效壓力”來表征分子沉模擬的效果。

在分子流情況下，兩容器間被一理想小孔分開，通過小孔沒有有效的氣流流動口如兩容器處在不同的溫度下( Ti、T2)，則兩處相應壓力為Pi和P2
 

在Ti>T2時，b＜1，這一結果說明導管聚束作用所產(chǎn)生的影響，導致偏離了熱流逸定律。

對非均勻環(huán)境中壓力測量的研究將使我們更真實地去反映客觀事物的狀態(tài)，具有重大的理論和實踐意義。在這方面很多問題還有待深入研究。