真空裝置:合理選擇刻蝕工況

　　不同的器件要根據(jù)不同的要求合理地選擇刻蝕工況，才能保證刻蝕出合格的器件。
　　
　?、賹怏w軸承螺旋槽止推板上刻蝕，利用LSK-3型離子束刻蝕機(jī)選擇合理的刻蝕工況，實現(xiàn)了不等寬螺旋槽的刻蝕。圖10-46給出了離子束刻蝕加工的動壓氣體軸承變寬螺旋槽止推板的外形圖。表10-40給出了兩對氣體軸承止槽板的刻蝕工況。



　　
　?、诼暠砻娌喜燮骷瓷洳鄣碾x子束刻蝕，利用LSK-2型離子束刻蝕機(jī)選擇合理的刻蝕工藝，對聲表面波交通槽器件的反射槽進(jìn)行離子束刻蝕。圖10-47給出了聲表面波溝槽器件結(jié)構(gòu)示意圖。其工藝過程如下：
　　
　　s*先在基底上光刻成光刻膠掩膜，用光刻膠遮擋不刻蝕部分，只讓要刻蝕的溝槽部分受離子束轟擊。
　　
　　作好掩膜的基底放人離子束刻蝕機(jī)真空室內(nèi)可移動的工件臺上。離子束通過“人”字形狹縫照射工件。狹縫寬度只允許離子束在每個時刻轟擊少數(shù)溝槽。移動工件臺，改變高子束在柵陣不同位置上的照射時間，便可形成所要求的槽深分布。工件臺的移動由TRS-80微機(jī)控制，用步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動。
　　
　　刻蝕的開始和結(jié)束由計算機(jī)通過快門的開關(guān)來控制。當(dāng)出現(xiàn)故障時，計算機(jī)自動關(guān)閉快門，中止刻蝕，排除故障后可繼續(xù)刻蝕。
　　
　　刻蝕的工況是：工作壓力：6.6×10-2Pa，束流80mA，束離子加速電壓600V，加速極電壓-200V，束流密度0.6mA/c㎡，器件（鈮酸鋰）的刻蝕速率為4×10-7mm/s。
　　
　　離子束刻蝕后，去掉光刻膠，用干涉顯微鏡測量槽深。實驗表明槽深分布與理論計算是一致的。