當(dāng)前位置: 康沃真空網(wǎng)  > 技術(shù)維修 > 真空知識(shí) > 正文

幾何圖形刻蝕的均勻性重復(fù)性

  整個(gè)樣品幾何圖形刻蝕的均勻性和可重復(fù)性,主要取決于離子源的性能和刻蝕面的形貌。著先要求離子源的工作參數(shù)穩(wěn)定,特別是束離子能量和束流密度穩(wěn)定,樣品的離子曝光區(qū)域的束流密度均勻??涛g面上的凸起和凹坑,會(huì)使線條變窄,斜面變形等。例如,若離子束垂直轟擊樣品基面,則凹坑斜面刻蝕得較快,使坑進(jìn)一步加深和擴(kuò)大。若使樣品傾斜一個(gè)角度,凹坑就得以減小或消除。與此相反,若刻蝕面有錐體凸起,則離子束垂直轟擊基面時(shí)使凸的生長(zhǎng)受限制。
標(biāo)簽: 幾何圖形離子源刻蝕  

溫馨提示:
如果您喜歡本文,請(qǐng)點(diǎn)擊右側(cè)分享給朋友或者同事。

網(wǎng)友評(píng)論

條評(píng)論

最新評(píng)論

關(guān)注排行