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真空鍍膜工藝對(duì)環(huán)境的要求詳解

  真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?;M(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理,達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。
  
  基片表面污染來(lái)自零件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。
  
  對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面,不能在大氣環(huán)境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至z*小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面,一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。
  
  清除鍍膜室內(nèi)的灰塵,設(shè)置清潔度高的工作間,保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對(duì)環(huán)境的基本要求??諝鉂穸却蟮牡貐^(qū),除鍍前要對(duì)基片、真空室內(nèi)各部件認(rèn)真清洗外,還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi),注意油擴(kuò)散返油,對(duì)加熱功率高的擴(kuò)散泵必須采取擋油措施。
標(biāo)簽: 真空鍍膜  

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