真空鍍膜：電阻式加熱蒸發(fā)源

　　真空鍍膜中，鍍膜機常用的蒸發(fā)源有電阻式加熱蒸發(fā)源、電子束式加熱蒸發(fā)源、空心熱陰極等離子束蒸發(fā)源、感應式加熱蒸發(fā)源。
　　
　　其中，電阻加熱式蒸發(fā)源實際上就是一個電阻加熱器，它是利用發(fā)熱體通電后，產生焦耳熱而獲得高溫，以此來熔融膜材使其達到蒸發(fā)的目的。由于這種源結構簡單，操作方便，成本低廉，材料易于獲得，因此，在鍍膜技術中得到了廣泛的應用。
　　
　　(1)絲狀源與舟狀源
　　
　　用難熔金屬制成的絲狀或舟狀電阻源是目前應用z*廣泛的一處蒸發(fā)源。其金屬絲、錐形筐和線圈可以是單股線的或多股線的。圖10-2為絲狀源簡圖，圖10-3為舟狀源簡圖。
　　
　　目前用于電阻加熱式熱源的材料有W、Ta、Mo、Nb等高融點金屬，有時也用Fe、Ni、Ni-Cr合金等，其中z*常用的是鉬片和鎢絲。
　　
　　(2)鋁蒸發(fā)用坩堝加熱器。在真空鍍膜技術中，蒸友鋁材占有重要的地位。在電子工業(yè)，光學零件特別是輕工業(yè)中蒸鍍鋁膜是非常普遍的。
　　
　?、偈釄寮訜崞?。一般認為，連續(xù)式蒸發(fā)設備所使用的蒸發(fā)源應具備的性能是：蒸發(fā)效率應足夠高；使用壽命應足夠長；坩堝與蒸發(fā)材料不發(fā)生反應；能長時間穩(wěn)定地蒸發(fā)并能自動補充蒸發(fā)材料。根據這些要求，目前所采用的加熱方式有電阻加熱、高頻加熱和電子束加熱。在大多數鍍鋁設備中，采用z*多的還是直接通電的電阻加熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源所用的坩堝材料一般為難熔金屬(如W、Mo、Ta)和石墨。前者多用于間歇式蒸發(fā)設備中，后者多用于連續(xù)式蒸發(fā)設備中。
　　
　　②氮化硼合成導電陶瓷加熱器。為了獲得比石墨更加理想的蒸發(fā)器材料，在真空鍍膜設備中，廣泛采用了一種新的蒸發(fā)器，即氮化硼合成導電陶瓷加熱器。這種加熱器是由耐腐蝕、耐熱性能優(yōu)良的氧化物、硼化物等材料通過熱壓、涂敷而成的一種具有導電性的陶瓷材料。