真空鍍膜中,鍍膜機常用的蒸發(fā)源有電阻式加熱蒸發(fā)源、電子束式加熱蒸發(fā)源、空心熱陰極等離子束蒸發(fā)源、感應式加熱蒸發(fā)源。
其中,電阻加熱式蒸發(fā)源實際上就是一個電阻加熱器,它是利用發(fā)熱體通電后,產生焦耳熱而獲得高溫,以此來熔融膜材使其達到蒸發(fā)的目的。由于這種源結構簡單,操作方便,成本低廉,材料易于獲得,因此,在鍍膜技術中得到了廣泛的應用。
(1)絲狀源與舟狀源
用難熔金屬制成的絲狀或舟狀電阻源是目前應用z*廣泛的一處蒸發(fā)源。其金屬絲、錐形筐和線圈可以是單股線的或多股線的。圖10-2為絲狀源簡圖,圖10-3為舟狀源簡圖。
目前用于電阻加熱式熱源的材料有W、Ta、Mo、Nb等高融點金屬,有時也用Fe、Ni、Ni-Cr合金等,其中z*常用的是鉬片和鎢絲。
(2)鋁蒸發(fā)用坩堝加熱器。在真空鍍膜技術中,蒸友鋁材占有重要的地位。在電子工業(yè),光學零件特別是輕工業(yè)中蒸鍍鋁膜是非常普遍的。
?、偈釄寮訜崞?。一般認為,連續(xù)式蒸發(fā)設備所使用的蒸發(fā)源應具備的性能是:蒸發(fā)效率應足夠高;使用壽命應足夠長;坩堝與蒸發(fā)材料不發(fā)生反應;能長時間穩(wěn)定地蒸發(fā)并能自動補充蒸發(fā)材料。根據這些要求,目前所采用的加熱方式有電阻加熱、高頻加熱和電子束加熱。在大多數鍍鋁設備中,采用z*多的還是直接通電的電阻加熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源所用的坩堝材料一般為難熔金屬(如W、Mo、Ta)和石墨。前者多用于間歇式蒸發(fā)設備中,后者多用于連續(xù)式蒸發(fā)設備中。
②氮化硼合成導電陶瓷加熱器。為了獲得比石墨更加理想的蒸發(fā)器材料,在真空鍍膜設備中,廣泛采用了一種新的蒸發(fā)器,即氮化硼合成導電陶瓷加熱器。這種加熱器是由耐腐蝕、耐熱性能優(yōu)良的氧化物、硼化物等材料通過熱壓、涂敷而成的一種具有導電性的陶瓷材料。
真空鍍膜:電阻式加熱蒸發(fā)源
2014-05-10 06:29:00 閱讀()
關注排行
網友評論
條評論
最新評論