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真空鍍膜:蒸發(fā)源的概述

  真空鍍膜中,鍍膜機(jī)常用的蒸發(fā)源有電阻式加熱蒸發(fā)源、電子束式加熱蒸發(fā)源、空心熱陰極等離子束蒸發(fā)源、感應(yīng)式加熱蒸發(fā)源。
  
  在設(shè)計(jì)蒸發(fā)源時(shí),需注意事項(xiàng)是:①蒸發(fā)源要使膜材有較高的蒸發(fā)率,并能存貯足夠的膜材;②蒸發(fā)率易控制;③長(zhǎng)時(shí)間工作穩(wěn)定性要好;④蒸發(fā)源需有較長(zhǎng)的壽命,可靠性要高;⑤運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用低,易于維護(hù)。從蒸鍍材料方面來(lái)講,蒸發(fā)源應(yīng)能夠蒸鍍Al、Ti、Fe、Co、Cr及其合金,以及Si0、Si02、MgF、ZnS等。
標(biāo)簽: 真空鍍膜蒸發(fā)源  

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