真空鍍膜：蒸發(fā)源的概述

　　真空鍍膜中，鍍膜機(jī)常用的蒸發(fā)源有電阻式加熱蒸發(fā)源、電子束式加熱蒸發(fā)源、空心熱陰極等離子束蒸發(fā)源、感應(yīng)式加熱蒸發(fā)源。
　　
　　在設(shè)計(jì)蒸發(fā)源時(shí)，需注意事項(xiàng)是：①蒸發(fā)源要使膜材有較高的蒸發(fā)率，并能存貯足夠的膜材；②蒸發(fā)率易控制；③長(zhǎng)時(shí)間工作穩(wěn)定性要好；④蒸發(fā)源需有較長(zhǎng)的壽命，可靠性要高；⑤運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用低，易于維護(hù)。從蒸鍍材料方面來(lái)講，蒸發(fā)源應(yīng)能夠蒸鍍Al、Ti、Fe、Co、Cr及其合金，以及Si0、Si02、MgF、ZnS等。