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PVD種類及原理
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2023-09-15  閱讀

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  【康沃真空網(wǎng)】PVD是一種通過物理方式將目標(biāo)材料制備在目標(biāo)基體表面的表面加工技術(shù),均在真空中進(jìn)行,PVD技術(shù)主要包括大三類:真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空電弧離子鍍膜。

  近年來,薄膜技術(shù)和薄膜材料的發(fā)展突飛猛進(jìn)、成果顯著,在原有基礎(chǔ)上,相繼出現(xiàn)了離子束增強沉積技術(shù)、電火花沉積技術(shù)、電子束物理氣相沉積技術(shù)和多層噴射沉積技術(shù)等。

  01 真空蒸鍍

  真空蒸發(fā)鍍膜的原理相對最簡單,包括電子束蒸發(fā)鍍膜、電阻蒸發(fā)鍍膜、電弧蒸發(fā)鍍膜、激光蒸發(fā)鍍膜等方式。

  其主要方式是在真空中將目標(biāo)靶材加熱為氣體蒸發(fā)或者汽化,通常加熱源位于目標(biāo)靶材的下方,目標(biāo)基體位于靶材的上方,靶材分子會在熱能的作用下上升,從而沉積在目標(biāo)基體上,越來越多的靶材氣體分子在目標(biāo)基體上聚集,便會生長成致密的薄膜。

  不同方式的蒸發(fā)鍍膜的區(qū)別僅僅在于加熱的不同。

  電阻蒸發(fā)鍍膜就是利用焦耳定律來給電阻提供熱能,電阻溫度變高后給靶材加熱,使其變?yōu)闅怏w分子。

  而電子束蒸發(fā)鍍膜方式略有不同,是利用電子束蒸發(fā)源發(fā)射電子束投射到靶材表面,靶材一般放在坩堝之中,受熱面積也較小,電子束可以加熱到1000 K以上,可以熔化所有常用材料。

  02 真空濺射鍍膜

  濺射鍍膜是指在真空條件下,利用獲得功能的粒子轟擊靶材料表面,使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過程稱為濺射。被濺射的靶材沉積到基材表面,就稱作濺射鍍膜。

  磁控濺射原理如圖所示,其中M代表金屬粒子。自由電子被電場加速飛向陽極,在此過程中與Ar原子碰撞,使其失去外層電子,釋放出Ar+和自由電子,Ar+在電場作用下飛向陰極,撞擊靶材,撞出靶材原子以及二次電子。自由電子在飛行過程中還有可能與Ar+相撞,使其恢復(fù)中性,但在此過程中電子由激發(fā)態(tài)回到基態(tài),會釋放出能量,這部分能量會以光子形式釋放,因為大量光子的釋放,所以等離子體會出現(xiàn)“輝光”現(xiàn)象。

  PVD種類及原理

  入射離子(Ar+)能量不同,所達(dá)到的效果也不相同。當(dāng)入射離子能量較低時,以入射離子沉積為主(離子束沉積);當(dāng)能量適中時,濺射出靶材原子;入射離子能量過高時,則會注入或擴散至靶材內(nèi)部。入射離子轟擊靶材表面的各種物理現(xiàn)象如圖所示。

  PVD種類及原理

  03 電弧離子鍍(AIP)

  電弧離子鍍(Arc ion plating,AIP)的基本原理為弧光放電,將爐內(nèi)抽至一個較低的真空度,再通過對引弧針施加一定強度的電流,使其將電流引至靶材表面,最終強電流使靶材表面蒸發(fā)或汽化,靶材原子獲得動能并擴散至基體表面,發(fā)生吸附、形核并最終生長成膜。

  電弧離子鍍的主要特點有:工作真空度高,氣體雜質(zhì)污染?。怀练e速率較快,制備出的薄膜較厚;沉積粒子離化率高,離子能量高;沉積裝置簡單,基體溫升較小。

  基于電弧離子鍍的原理和特點,其也具備一定的缺點:由于電弧離子鍍電流強度高,提供能量較大,導(dǎo)致金屬靶材表面很容易產(chǎn)生金屬液滴,金屬液滴會直接沉積至基體表面,會降低涂層的性能,也會降低膜基結(jié)合力;因為引弧針要施加強電流,所以靶材必須選用導(dǎo)電的材料,選擇性較少。

  04 離子束增強沉積技術(shù)(IBED)

  離子束增強沉積技術(shù)是一種將離子注入與薄膜沉積融為一體的材料表面改性新技術(shù)。它是指在氣相沉積鍍膜的同時,采用一定能量的離子束進(jìn)行轟擊混合,從而形成單質(zhì)或化合物膜層。

  它除了保留離子注入的優(yōu)點外,還可在較低的轟擊能量下連續(xù)生長任意厚度的膜層,并能在室溫或近室溫下合成具有理想化學(xué)配比的化合物膜層(包括常溫常壓無法獲得的新型膜層)。

  該技術(shù)具有工藝溫度低(<200°C),對所有襯底結(jié)合力強,可在室溫得到高溫相、亞穩(wěn)相及非晶態(tài)合金,化學(xué)組成便二控制,斱便控制生長過程等優(yōu)點。主要缺點是離子束具有直射性,因此處理形狀復(fù)雜的表面比較困難。

  05 電火花沉積技術(shù)(ESD)

  電火花沉積技術(shù)是將電源存儲的高能量電能,在金屬電極(陽極)與金屬母材(陰極)間瞬時高頻釋放,通過電極材料與母材間的空氣電離,形成通道,使母材表面產(chǎn)生瞬時高溫、高壓微區(qū)。同時離子態(tài)的電極材料在微電場的作用下融滲到母材基體,形成冶金結(jié)合。

  電火花沉積工藝是介于焊接與噴濺或元素滲入之間的工藝,經(jīng)過電火花沉積技術(shù)處理的金屬沉積層具有較高硬度及較好的耐高溫性、耐腐蝕性和耐磨性,而且設(shè)備簡單、用途廣泛、沉積層不基體的結(jié)合非常牢固,一般不會發(fā)生脫落,處理后工件不會退火或變形,沉積層厚度容易控制,操作方法容易掌握。主要缺點是缺少理論支持,操作尚未實現(xiàn)機械化和自動化。

  06 電子束物理氣相沉積技術(shù)(EB-PVD)

  電子束物理氣相沉積技術(shù)是以高能密度的電子束直接加熱蒸發(fā)材料,蒸發(fā)材料在較低溫度下沉積在基體表面的技術(shù)。 

  該技術(shù)具有沉積速率高 (10kg/h ~15kg/h 的蒸發(fā)速率)、涂層致密、化學(xué)成分易于精確控制、可得到柱狀晶組織、無污染以及熱效率高等優(yōu)點。該技術(shù)的缺點是設(shè)備昂貴,加工成本高。目前,該技術(shù)已經(jīng)成為各國研究的熱點。

  07 多層噴射沉積技術(shù)(MLSD)

  傳統(tǒng)的噴射沉積技術(shù)相比,多層噴射沉積的一個重要特點是可調(diào)節(jié)接收器系統(tǒng)和坩堝系統(tǒng)的運動,使沉積過程為勻速且軌跡不重復(fù),從而得到平整的沉積表面。

  其主要特點是:沉積過程中的冷卻速度比傳統(tǒng)噴射沉積要高,冷卻效果較好;可制備大尺寸工件,且冷卻速度不受影響;工藝操作簡單,易于制備尺寸精度較高、表面均勻平整的工件;液滴沉積率高;材料顯微組織均勻細(xì)小,無明顯界面反應(yīng),材料性能較好。