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真空鍍膜:靶材分類與產(chǎn)業(yè)鏈介紹
標(biāo)簽: 真空鍍膜
2022-10-08  閱讀

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  【康沃真空網(wǎng)】一、靶材介紹 

  靶材是半導(dǎo)體、顯示面板、光伏等領(lǐng)域制備功能薄膜的核心原材料,存在工藝不可替代性。

  由于是在濺射過程中被高速金屬等離子體流轟擊的目標(biāo)材料,又稱“濺射靶材”,純度為99.95%以上,更換不同靶材可得到不同的膜系,實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電或阻擋等功能。

  不同應(yīng)用的靶材品種性能要求各有側(cè)重,重視高附加值的原料制備。

  整體而言,靶材的純度、致密度和成分均勻性、晶粒等對(duì)靶材性能都有一定影響,且針對(duì)不同的下游影響程度和側(cè)重點(diǎn)有所不同。

真空鍍膜:靶材分類與產(chǎn)業(yè)鏈介紹

▲ 濺射工藝原理圖,資料來源:江豐電子招股書

  二、靶材的分類 

  根據(jù)不同材質(zhì)靶材可分為:金屬靶材,陶瓷靶材,合金靶材。

  根據(jù)不同應(yīng)用領(lǐng)域可分為:

  ● 半導(dǎo)體靶材:

  電極、布線薄膜:鋁靶材,銅靶材,金靶材,銀靶材,鈀靶材,鉑靶材,鋁硅合金靶材,鋁硅銅合金靶材等。

  儲(chǔ)存器電極薄膜:鉬靶材,鎢靶材,鈦靶材等。

  粘附薄膜:鎢靶材,鈦靶材等。

  電容器絕緣膜薄膜:鋯鈦酸鉛靶材等。

  ● 磁記錄靶材:

  垂直磁記錄薄膜:鈷鉻合金靶材等。

  硬盤用薄膜:鈷鉻鉭合金靶材,鈷鉻鉑合金靶材,鈷鉻鉭鉑合金靶材等。

  薄膜磁頭:鈷鉭鉻合金靶材,鈷鉻鋯合金靶材等。

  人工晶體薄膜:鈷鉑合金靶材,鈷鈀合金靶材等。

  ● 光記錄靶材:

  相變光盤記錄薄膜:硒化碲靶材,硒化銻靶材,鍺銻碲合金靶材,鍺碲合金靶材等。

  磁光盤記錄薄膜:鏑鐵鈷合金靶材,鋱鏑鐵合金靶材,鋱鐵鈷合金靶材,氧化鋁靶材,氧化鎂靶材,氮化硅靶材等。

  光盤反射薄膜:鋁靶材,鋁鈦合金靶材,鋁鉻合金靶材,金靶材,金合金靶材等。

  光盤保護(hù)薄膜:氮化硅靶材,氧化硅靶材,硫化鋅靶材等。

  ● 顯示靶材:

  透明導(dǎo)電薄膜:氧化銦錫靶材,氧化鋅鋁靶材等。

  電極布線薄膜:鉬靶材,鎢靶材,鈦靶材,鉭靶材,鉻靶材,鋁靶材,鋁鈦合金靶材,鋁鉭合金靶材等。

  電致發(fā)光薄膜:硫化鋅摻錳靶材,硫化鋅摻鋱靶材,硫化鈣摻銪靶材,氧化釔靶材,氧化鉭靶材,鈦酸鋇靶材等。

  ● 其他應(yīng)用靶材:

  裝飾薄膜:鈦靶材,鋯靶材,鉻靶材,鈦鋁合金靶材,不銹鋼靶材等。

  低電阻薄膜:鎳鉻合金靶材,鎳鉻硅合金靶材,鎳鉻鋁合金靶材,鎳銅合金靶材等。

  超導(dǎo)薄膜:釔鋇銅氧靶材,鉍鍶鈣銅氧靶材等。

  工具鍍薄膜:氮化物靶材,碳化物靶材,硼化物靶材,鉻靶材,鈦靶材,鈦鋁合金靶材,鋯靶材,石墨靶材等。

  三、靶材產(chǎn)業(yè)鏈及市場(chǎng) 

  靶材制造產(chǎn)業(yè)鏈中主要環(huán)節(jié)為“金屬提純-靶材制造-濺射鍍膜-終端應(yīng)用”四個(gè)環(huán)節(jié),各環(huán)節(jié)附加值的差異也遵從微笑曲線分布。

  其中濺射鍍膜是整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)要求最高的環(huán)節(jié),濺射薄膜的品質(zhì)對(duì)下游產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要的影響。

真空鍍膜:靶材分類與產(chǎn)業(yè)鏈介紹

▲ 資料來源:萬聯(lián)證券

  從需求結(jié)構(gòu)來看,顯示用靶材占比最大、國內(nèi)京東方和TCL等廠家份額有望超60%;半導(dǎo)體用靶材市場(chǎng)規(guī)模在兩百億元量級(jí),技術(shù)要求最高,中國大陸及臺(tái)灣市場(chǎng)占據(jù)半壁江山。

  記錄媒體(機(jī)械硬盤HDD為主)用靶材份額僅次于顯示領(lǐng)域,HDD相對(duì)固態(tài)硬盤在服務(wù)器、數(shù)據(jù)中心等領(lǐng)域優(yōu)勢(shì)無可替代,但市場(chǎng)主要以海外為主光伏領(lǐng)域,當(dāng)前薄膜電池以美國為主,HJT電池由于效率優(yōu)勢(shì)隨著成本下降發(fā)展可期。

  據(jù)中國產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng),靶材行業(yè)市場(chǎng)空間有望從當(dāng)前200億元水平增至2023年300億元,3年CAGR9.7%較高增長(zhǎng)。