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真空鍍膜歷史

  1935年,有人研制出真空蒸發(fā)淀積的單層減反射膜。但它的z*先應(yīng)用是1945年以后鍍制在眼鏡片上。
  
  1938年,美國(guó)和歐洲研制出雙層減反射膜,但到1949年才制造出優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品。
  
  1965年,研制出寬帶三層減反射系統(tǒng)。在反射膜方面,美國(guó)通用電氣公司1937年制造出第一盞鍍鋁燈。德國(guó)同年制成第一面醫(yī)學(xué)上用的抗磨蝕硬銠膜。在濾光片方面,德國(guó)1939年試驗(yàn)淀積出金屬—介質(zhì)薄膜Fabry---Perot型干涉濾光片。 在濺射鍍膜領(lǐng)域,大約于1858年,英國(guó)和德國(guó)的研究者先后于實(shí)驗(yàn)室中發(fā)現(xiàn)了濺射現(xiàn)象。該技術(shù)經(jīng)歷了緩慢的發(fā)展過(guò)程。
  
  1955年,Wehner提出高頻濺射技術(shù)后,濺射鍍膜發(fā)展迅速,成為了一種重要的光學(xué)薄膜工藝?,F(xiàn)有兩極濺射、三極濺射、反應(yīng)濺射、磁控濺射和雙離子濺射等淀積工藝。
  
  自50年代以來(lái),光學(xué)薄膜主要在鍍膜工藝和計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)兩個(gè)方面發(fā)展迅速。在鍍膜方面,研究和應(yīng)用了一系列離子基新技術(shù)。
  
  1953年,德國(guó)的Auwarter申請(qǐng)了用反應(yīng)蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜的專利,并提出用離子化的氣體增加化學(xué)反應(yīng)性的建議。
  
  1964年,Mattox在前人研究工作的基礎(chǔ)上推出離子鍍系統(tǒng)。那時(shí)的離子系統(tǒng)在10Pa壓力和2KV的放電電壓下工作,用于在金屬上鍍耐磨和裝飾等用途的鍍層,不適合鍍光學(xué)薄膜。后來(lái),研究采用了高頻離子鍍?cè)诓AУ冉^緣材料上淀積光學(xué)薄膜。
  
  70年代以來(lái),研究和應(yīng)用了離子輔助淀積、反應(yīng)離子鍍和等離子化學(xué)氣相等一系列新技術(shù)。它們由于使用了帶能離子,而提供了充分的活化能,增加了表面的反應(yīng)速度。提高了吸附原子的遷移性,避免形成柱狀顯微結(jié)構(gòu),從而不同程度地改善了光學(xué)薄膜的性能,是光學(xué)薄膜制造工藝的研究和發(fā)展方向。
標(biāo)簽: 真空鍍膜  

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